有源晶振,石英晶体振荡器,TCXO晶振,压控晶振

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: Abracon晶振,贴片振荡器,ASTMUPLP晶振

频率：1.00~625.00MHZ 尺寸：3.2 x 2.5 x 0.75mm;5.0 x 3.2 x 0.75mm;7.0 x 5.0 x 0.9mm 超低配置，低功耗，SMD 微机电系统振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,贴片振荡器,ASTMUPLD晶振

频率：1.00~625.00MHZ 尺寸：3.2 x 2.5 x 0.75mm;5.0 x 3.2 x 0.75mm;7.0 x 5.0 x 0.9mm 超低配置，低功耗，SMD 微机电系统振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,贴片振荡器,ASTMUPC晶振

频率：1.00~200.00MHZ 尺寸：2.7 x 2.4 x 0.75mm; 3.2 x 2.5 x 0.75mm;5.0 x 3.2 x 0.75mm; 7.0 x 5.0 x 0.9mm超低配置，低功耗，SMD 微机电系统振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,贴片时钟振荡器,ASTMLPT晶振

频率：2.30~170.00MHZ 尺寸：3.5*3.0mm 超低配置，低功耗，SMD 微机电系统振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,贴片时钟振荡器,ASTMLP晶振

频率：2.30~170.00MHZ 尺寸：2.0 x 1.6 x 0.75mm; 2.5 x 2.0 x 0.75mm;3.2 x 2.5 x 0.75mm; 5.0 x 3.2 x 0.75mm;7.0 x 5.0 x 0.9mm低抖动针可配置双LVPECL输出超小型纯硅时钟振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,贴片时钟振荡器,ASTMHT晶振

频率：2.30~170.00MHZ 尺寸：2.0 x 1.6 x 0.75mm; 2.5 x 2.0 x 0.75mm;3.2 x 2.5 x 0.75mm; 5.0 x 3.2 x 0.75mm;7.0 x 5.0 x 0.9mm低抖动针可配置双LVPECL输出超小型纯硅时钟振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,时钟振荡器,ASFLMP晶振

频率：2.30~170.00MHZ 尺寸：5.0*3.2mm 低抖动针可配置双LVPECL输出超小型纯硅时钟振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,时钟振荡器,ASFLMB晶振

频率：1.0~150.00MHZ 尺寸：5.0*3.2mm 低抖动针可配置双LVPECL输出超小型纯硅时钟振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,时钟振荡器,ASFLM晶振

频率：2.3~170.00MHZ 尺寸：5.0*3.2mm 低抖动针可配置双LVPECL输出超小型纯硅时钟振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,时钟振荡器,ASEMP晶振

频率：2.3~170.00MHZ 尺寸：3.2*2.5mm 低抖动针可配置双LVPECL输出超小型纯硅时钟振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,进口时钟晶体,ASEMDLVP晶振

频率：2.3~460.00MHZ 尺寸：3.2*2.5mm 低抖动针可配置双LVPECL输出超小型纯硅时钟振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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: Abracon晶振,进口时钟晶体,ASEMDLV晶振

频率：2.3~460.00MHZ 尺寸：3.2*2.5mm 低抖动针可配置双LVPECL输出超小型纯硅时钟振荡器,低抖动(周期抖动RMS 3ps典型),低集成相位抖动2ps max,优异的冲击和振动免疫.

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佛罗里达州迈阿密设计的产品规格符合市场需求。总部。位于佛罗里达州和中国的生产基地使公司能够满足客户优化总采购成本的需求，同时为提供的所有产品系列提供足够的生产空间。提供的产品质量是所有Rubyquartz员工和公司管理层的主要关注点之一。
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